Bộ điều khiển lưu lượng khối hơi lỏng độ chính xác cao ASM LVC-414-3 54-107950A15 được thiết kế để tích hợp vào thiết bị xử lý wafer bán dẫn, đặc biệt là các cụm thiết bị lắng đọng hơi hóa học (CVD) và lắng đọng lớp nguyên tử (ALD). Mô-đun này hoạt động như một thành phần phụ thông minh, đo lường và điều chỉnh chính xác lưu lượng khối của khí mang khi chúng đi qua các bộ sục khí hóa học để thu gom và phân phối các chất pha tạp tiền chất vào buồng xử lý. Được chế tạo với các đường dẫn khí bên trong chắc chắn, có độ tinh khiết cao và khả năng chống hóa chất, cùng với giao diện điều khiển tương tự/số, LVC-414-3 ngăn ngừa sự ngưng tụ tiền chất, duy trì tỷ lệ nồng độ hơi-khí có độ lặp lại cao và đảm bảo tính đồng nhất của màng phim cũng như sự ổn định của quy trình trong môi trường chân không phòng sạch khắc nghiệt.

Nguồn cấp điện tiêu chuẩn cho mạch logic vận hành: ±15V DC

Giao diện đầu vào lệnh/điểm đặt: Analog 0 đến 5 VDC

Giao diện giám sát lưu lượng đầu ra: Analog 0 đến 5 VDC

Nhiệt độ môi trường hoạt động: 5°C đến 50°C

Áp suất định mức tối đa của hệ thống: 10 bar

Tiêu chuẩn kiểm tra rò rỉ: ≤ 1 × 10⁻⁹ atm·cc/sec Helium

AnyBus (Cổng thông tin)

Màn hình tần số thấp công nghiệp

Mô-đun đầu vào/đầu ra từ xa (RTU)

Các sản phẩm phụ trợ liên quan đến điều khiển công nghiệp

Máy tính công nghiệp (IPC)

Giao diện người-máy

Bộ điều khiển logic lập trình (PLC)

Ổ cứng dung lượng thấp dành cho mục đích công nghiệp SCSI

6ES7314-1AF11-0AB0

6ES5460-4UA11

25X8164C1L 6

IC693ALG391

6ED1052-1FB00-0BA6

6ES5460-4UA12

IC754VSI12CTD-KJ

IC693MDL753

6SL3210-1KE22-6AP1

6GK7342-5DA03-0XE0

IS210BPPCH1ACA

DS200TCEAG1BTF

6ES7307-1EA00-0AA0

6ES7365-0BA01-0AA0

IS200EPSMG1AED

UMT162-A

6ES7313-6CG04-0AB0

6ES7193-4CB30-0AA0

IC752SPL013

IS200TRPGH1BDE

3TK2824-2BB40

6ES7193-4CE10-0AA0

IC693PWR321AA

IS200TRLYH1BGG

6ES7155-6AU00-0CN0

6ES7350-2AH01-0AE0

IS215VPROH1BE

IS200EPSMG1ADC